[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法在审
| 申请号： | 202010655164.3 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN111812949A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 白户章仁;涩谷敬 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 叶明川;单晓双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法。控制系，根据用以补偿因多个格子区域(RG)(标尺(152))、多个读头(66a～66d)、以及基板保持具(34)的移动的至少一个而产生的包含编码器系统的测量系的测量误差的修正信息、以及以测量系测量的位置信息，控制基板保持具的驱动系，多个读头分别在基板保持具于X轴方向的移动中，来自读头的测量光束从多个格子区域(RG)的一个脱离，且移至相邻的另一格子区域(RG)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 平面 显示器 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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