[发明专利]使用同轴波导的等离子体装置以及基板处理方法在审
| 申请号： | 202010655398.8 | 申请日： | 2020-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN112216589A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 吉川润;野泽俊久 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/46;C23C16/455;C23C16/511 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种等离子体装置的示例包括：同轴波导，其具有内导体和包围该内导体的外导体，其中在外导体和内导体之间设置有第一间隙，所述同轴波导具有在多个分支部处分支的形状；多个杆，其具有导体和包围该导体的电介质，其中在电介质和导体之间设置有第二间隙，所述多个杆连接在分支部处分支的同轴波导的两个端部，以连接第一间隙和第二间隙；以及导电桩，其设置在同轴波导的通过在分支部处分支而获得的分支部分处，所述导电桩可插入第一间隙并且可从第一间隙移除。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 同轴 波导 等离子体 装置 以及 处理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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