[发明专利]一种以核径迹蚀刻膜为基膜的疏水/亲水复合膜及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202010658032.6 申请日: 2020-07-09
公开(公告)号: CN111871221A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 项军;唐娜;陈乃麟;程鹏高;张蕾;杜威;王松博;张建平 申请(专利权)人: 天津科技大学
主分类号: B01D67/00 分类号: B01D67/00;B01D69/12;B01D71/34;B01D71/50;B01D61/36
代理公司: 北京市领专知识产权代理有限公司 11590 代理人: 钟华;任永利
地址: 300457 天津市滨*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开一种以核径迹蚀刻膜为基膜的疏水/亲水复合膜及其制备方法和应用,核径迹蚀刻膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜;疏水/亲水复合膜的一面为疏水性的聚偏氟乙烯膜,水接触角为90°~100°;另一面为亲水性的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜,水接触角为55°~65°。本发明所制备的疏水/亲水双层膜孔径分布窄且均匀,透气性好,机械强度良好。本发明为膜蒸馏提供了一种性能优良新型的复合膜结构,充分利用较低温度料液的余热进行直接接触式膜蒸馏浓缩分离,提高过程渗透通量及热效率。制备的疏水/亲水复合膜在直接接触式膜蒸馏的应用效果很好,运行稳定,疏水/亲水复合膜相比较聚酯无纺布支撑的PVDF疏水膜渗透通量增加了23.70%。
搜索关键词: 一种 径迹 蚀刻 疏水 复合 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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