[发明专利]一种电极及其制备方法

摘要

本发明涉及一种电极及其制备方法，电极从下到上依次设置有基板、SiO2膜、第一铟锡氧化物层和第二铟锡氧化物层，其中第二铟锡氧化物层中的Sn和In的组成比为50％或50％以上。电极制备方法包括，在基板上沉积一层SiO2膜；制备第一铟锡氧化物层；准备铟锡有机络合物溶液，其中锡和铟的比例控制在50％或50％以上，将雾化后的络合物分解为氧化铟和氧化锡，扩散并沉积到第一铟锡氧化物层上，形成第二铟锡氧化物层。本发明中可以通过对第二铟锡氧化物层中Sn和In的组成比变化实现高功率函数和低电阻之间的平衡；而且可以通过将富含Sn的ITO膜即第二铟锡氧化物层和普通ITO膜即第一铟锡氧化物层结合使得电极的表面功函数很高，可以达到5.7eV，注入空穴能力强。