[发明专利]一种半导体中央处理器散热硅脂的清洁装置在审
申请号: | 202010670561.8 | 申请日: | 2020-07-13 |
公开(公告)号: | CN111804631A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 温粟 | 申请(专利权)人: | 青田林心半导体科技有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;B08B13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 323900 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体中央处理器散热硅脂的清洁装置,包括机体,所述机体内设置有开口朝右的工作腔,所述工作腔的上端壁左侧设置有开口朝下的回收腔,所述回收腔的右侧设置有开口朝下的转动腔,所述回收腔内设置有清洁装置,所述清洁装置包括滑动设置于所述回收腔内的清洁块,该发明能够将处理器的处理器风扇拆掉,并自动清理至工作腔右侧,在拆卸过程中由于对于处理器风扇向上的正压力稳定且平衡,所以使半导体处理器受到的损害降低,且相较于常规拆卸更加便捷省力。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 中央处理器 散热 清洁 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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