[发明专利]一种复合研抛方法与装置在审
| 申请号： | 202010680062.7 | 申请日： | 2020-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN111906683A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 徐志强;薄新谦;唐志发;吴衡;王军;张高峰 | 申请（专利权）人： | 湘潭大学 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B37/005;B24D3/34;B24B1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 411105 湖南省湘潭*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种复合研抛方法与装置，旨在克服单一磁场抛光时间长、效率低下等问题。提供一种复合研抛方法，包括以下步骤：将研抛主轴、研抛盘安装在数控机床上，将在基座上圆周阵列的环形电磁铁固定在研抛盘的下方；通过环形电磁铁调节研抛盘不同区域的磁场，进而使研抛盘的不同区域刚度不同，实现对零件的高效率研抛。还提供一种复合研抛装置，主要包括：环形电磁铁、基座、研抛盘、控制箱及研抛主轴等。环形电磁铁在基座上圆周阵列分布并且设置在研抛盘的下方，环形电磁铁的电流大小可独立控制。本发明可通过调节不同区域环形电磁铁的磁场大小，从而调节研抛盘上对应区域的刚度，实现对工件的研抛一体加工，提高加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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