[发明专利]一种超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材的电解抛光工艺有效
| 申请号： | 202010688599.8 | 申请日： | 2020-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN111826706B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;王少平 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/22 | 分类号： | C25F3/22;G01N1/32;G01N23/2005;G01N23/20058;G01N23/203;G01N23/2055 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材的电解抛光工艺。本发明的超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材的电解抛光工艺，包括如下步骤：1)对超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材待分析面进行研磨；2)对经步骤1)研磨后的待分析面采用电解抛光液进行电解抛光。本发明的超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材的电解抛光工艺，适用于芯片用超高纯Cu及Cu合金靶材的晶粒尺寸、晶向、织构等晶体学分析，特别适用于细晶、超细晶超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材，用于指导超高纯Cu或超高纯Cu合金靶材的工艺开发。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 cu 合金 电解 抛光 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料股份有限公司，未经宁波江丰电子材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010688599.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
