[发明专利]半导体工艺设备及其磁控管机构有效

专利信息
申请号: 202010692137.3 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN111809157B 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 杨玉杰;王世如;赵康宁 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;H01J25/50;H01L21/203
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其磁控管机构。该磁控管机构包括:背板组件、活动磁极及固定磁极;背板组件包括第一背板及第二背板,第二背板能相对于第一背板移动;多个固定磁极设置于第一背板的底面上,多个活动磁极设置于第二背板的底面上;当第二背板移动至预设位置时,多个活动磁极中的至少一个活动磁极与多个固定磁极中的至少一个固定磁极构成一呈闭合状态的磁控管,其它活动磁极及固定磁极呈非闭合状态。本申请实施例实现多个磁控管的交替启辉,进而实现多种工艺之间快速切换,并且不会出现多个磁控管之间争夺启辉现象,从而进一步增加工艺稳定性。
搜索关键词: 半导体 工艺设备 及其 磁控管 机构
【主权项】:
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