[发明专利]一种高透射率的纳米氧化硅薄膜及其制备工艺在审
| 申请号： | 202010693870.7 | 申请日： | 2020-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN111960688A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 唐正霞;戴旭;相恒一 | 申请（专利权）人： | 金陵科技学院 |
| 主分类号： | C03C17/25 | 分类号： | C03C17/25;C01B33/145;B82Y40/00;C08J7/06;C08L101/00 |
| 代理公司： | 南京泰普专利代理事务所(普通合伙) 32360 | 代理人： | 姜露露 |
| 地址： | 211100 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高透射率的纳米氧化硅薄膜及其制备工艺，属于材料的表面改性领域。包括衬底预处理；氧化硅溶胶的制备；旋涂法制氧化硅薄膜；加热固化及其退火处理四个步骤。本发明通过高温退火，在氧化硅薄膜中形成Si‑O‑Si三维网状结构能够达到提高薄膜、与衬底的结合力；对于低熔点衬底，通过硅乙烯基与硅氢键在催化剂的作用发生加成反应，使得组分间相互交联，进而提高薄膜强度、与衬底结合力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射率 纳米 氧化 薄膜 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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