[发明专利]聚焦环和包括其的基板处理装置在审
| 申请号： | 202010703388.7 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN112289671A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 李东穆;李相起 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;王艳春 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了聚焦环和具有该聚焦环的基板处理装置。基板处理装置包括工艺腔室、卡盘和聚焦环，其中：工艺腔室提供用于基板的工艺处理空间；卡盘支承基板；聚焦环布置为围绕卡盘的边缘，其中，聚焦环包括具有不同性质的多个层，并且多个层之间的接合表面形成为预先设定的规定图案。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 包括 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于细美事有限公司，未经细美事有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010703388.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：对机动车的可能的碰撞的警告
- 下一篇：具有改善的正则化参数的压缩感测
