[发明专利]一种上部土层下部软岩基坑的支护结构、建筑及施工方法在审

专利信息
申请号: 202010703441.3 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN111877358A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 曹平;刘春宇;刘洋;李果;张骐;唐凯;李冀伟;何伟;曾理彬;卢致强;钟扬;刘建伟 申请(专利权)人: 成都市建筑设计研究院
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04;E02D5/76;E02D29/045
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 何祖斌
地址: 610017 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于城市轨道交通土建工程技术领域,具体涉及一种上部土层下部软岩基坑的支护结构、建筑及施工方法。其技术方案为:一种上部土层下部软岩基坑的支护结构,包括围护桩,围护桩的上段的直径大于围护桩的下段的直径。一种上部土层下部软岩基坑的建筑,包括支护结构和若干层建筑主体。一种上部土层下部软岩基坑的建筑的施工方法,包括如下步骤:S1:采用不同成孔直径钻头进行钻孔;S2:在钻孔内下钢筋笼,进行混凝土水下灌注;S3:开挖基坑;架设若干支撑钢,打设若干锚索;S4:在基坑内施作若干层建筑主体。本发明提供了节约经济且可提高施工效率的上部土层下部软岩基坑的支护结构、建筑及施工方法。
搜索关键词: 一种 上部 土层 下部 基坑 支护 结构 建筑 施工 方法
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