[发明专利]光学装置、曝光装置以及物品制造方法在审
| 申请号： | 202010704311.1 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN112286002A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 矢田裕纪 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李鹏宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。光学装置的特征在于，具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，该光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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