[发明专利]一种CVD炉快速降温的装置及方法在审
| 申请号： | 202010704497.0 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN111981857A | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 刘汝强;王殿春;李晓明;吴思华;周清波 | 申请（专利权）人： | 山东国晶新材料有限公司 |
| 主分类号： | F27D9/00 | 分类号： | F27D9/00;F27D19/00 |
| 代理公司： | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人： | 颜洪岭 |
| 地址： | 251200 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种CVD炉快速降温的装置及方法，包括液氮罐、流量控制器、阀门、压力传感器、温度传感器和PLC控制器；液氮罐通过输入管依次连接流量控制器、阀门及CVD炉炉壳夹层的输入口，压力传感器设置在CVD炉炉壳夹层的安装口上，温度传感器设置在CVD炉炉壳夹层的顶部，压力传感器、温度传感器和流量控制器分别与PLC控制器连接。本发明的方法采用液氮降温，液氮温度为‑196℃，在气化过程中会吸收大量的热，相比较常温循环水(25℃)，能够更快速的带走CVD炉内辐射出的热量；采用本发明方法可使CVD炉内温度降到100℃以下的降温时间缩短了1‑2倍。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 快速 降温 装置 方法 | ||
【主权项】：
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