[发明专利]布拉格光栅及其制备方法、分布反馈激光器有效

专利信息
申请号: 202010707847.9 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN111769437B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 孙维忠;赵桑之;李洵 申请(专利权)人: 厦门市三安集成电路有限公司
主分类号: H01S5/12 分类号: H01S5/12;H01S5/22
代理公司: 北京超成律师事务所 11646 代理人: 王文宾
地址: 361100 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供一种布拉格光栅及其制备方法、分布反馈激光器,属于半导体激光器技术领域。布拉格光栅,设置于分布反馈激光器中,包括:依次形成的的折射率具有差异的下光栅波导层、中光栅波导层以及上光栅波导层,中光栅波导层的折射率低于下光栅波导层的折射率和上光栅波导层的折射率,下光栅波导层与中光栅波导层的掺杂类型相同,上光栅波导层的掺杂类型与相邻层级的掺杂类型相反,用于在上光栅波导层形成反偏PN结,上光栅波导层沿分布反馈激光器的腔长方向间隔形成有多个凹槽,凹槽内填充有掩埋层,以平坦上光栅波导层。该布拉格光栅的耦合系数能够随分布反馈激光器的电流增加而升高,从而减少分布反馈激光器的腔损耗,进而拓展响应带宽。
搜索关键词: 布拉格 光栅 及其 制备 方法 分布 反馈 激光器
【主权项】:
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