[发明专利]一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法有效
申请号: | 202010708975.5 | 申请日: | 2020-07-22 |
公开(公告)号: | CN111849342B | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 刘楷楷;董红星 | 申请(专利权)人: | 宁波惠之星新材料科技有限公司 |
主分类号: | C09D175/14 | 分类号: | C09D175/14;C09D7/61;C09D7/63;C09D7/47;H01B13/00 |
代理公司: | 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 | 代理人: | 戚秋鹏 |
地址: | 315000 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法,其低水接触角高折射率硬化液包括高耐磨高硬度树脂、高折射率填料、分散剂、光引发剂、有机溶剂和可重涂流平剂;其低水接触角高折射率硬化液制备ITO导电膜的方法,包括以下步骤:步骤S001,选取合适的基材;步骤S002,制备低水接触角高折射率硬化液;步骤S003,涂布低水接触角高折射率层;将低水接触角高折射率硬化液涂布在基材上,并经UV固化后形成低水接触角高折射率层;步骤S004,溅射ITO导电层;在低水接触角高折射率层上溅射ITO导电层形成ITO导电膜;本发明提供了低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法,克服了现有ITO导电膜制备效果差以及制备工艺繁琐的缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 接触角 折射率 硬化 及其 制备 ito 导电 方法 | ||
【主权项】:
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