[发明专利]一种光掩模及其制作方法在审
| 申请号： | 202010709933.3 | 申请日： | 2020-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN113970875A | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 周育润;陈冠廷;柯思羽;张凯翔 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造（济南）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 姚璐华 |
| 地址： | 250101 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光掩模及其制作方法，光掩模包括主图形和至少一个散射条图形，由于所述散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，且所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧，因此，即便增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，散射条图形也不会随主图形一同被刻蚀出，从而可以通过增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，增大主图形的聚焦深度，提高其工艺窗口的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光掩模 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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