[发明专利]照明器、光刻装置和调整曝光辐射的强度均一性的方法在审
| 申请号： | 202010709965.3 | 申请日： | 2020-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN112305871A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 许哲彰;郑介任;陈立锐;简上杰;张晁祯;陈思妤 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 王素琴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种照明器包括：第一琢面镜面，接收且反射曝光辐射；可调整屏蔽元件，安置于第一琢面镜面上，可调整屏蔽元件调整由第一琢面镜面反射的曝光辐射的强度均一性；以及第二琢面镜面，接收且反射由第一琢面镜面反射的曝光辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 明器 光刻 装置 调整 曝光 辐射 强度 均一 方法 | ||
【主权项】：
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