[发明专利]基于多层膜沉积的寻迹式线宽标准样片及其制备方法有效
| 申请号： | 202010711573.0 | 申请日： | 2020-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN111924798B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 赵琳;李锁印;梁法国;邹学锋;韩志国;张晓东;冯亚南;许晓青;吴爱华 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
| 主分类号： | B81C3/00 | 分类号： | B81C3/00 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 付晓娣 |
| 地址： | 050051 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明适用于微纳米测量仪器计量技术领域，提供了一种基于多层膜沉积的寻迹式线宽标准样片及其制备方法，该寻迹式线宽标准样片包括：依次设置的第一衬底样片、多层介质层和第二衬底样片；第一衬底样片的第一面上设置多个第一凹槽，每个第一凹槽内均具有与第一衬底样片的第一面齐平的第一填充介质；第一凹槽内未设置第一填充介质的部分为第一寻迹凹槽；第二衬底样片的第一面上设置多个第二凹槽，每个第二凹槽内均具有与第二衬底样片的第一面齐平的第二填充介质；第二凹槽内未设置第二填充介质的部分为第二寻迹凹槽。本发明通过多个第一寻迹凹槽和多个第二寻迹凹槽，便于寻找多层介质层中作为标准线条的一层，实现大倍率测量的关键设备的快速校准。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 多层 沉积 寻迹式线宽 标准 样片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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