[发明专利]一种大温差晶体生长炉及制备高质量氮化铝单晶的方法在审

专利信息
申请号: 202010719105.8 申请日: 2020-07-23
公开(公告)号: CN111676514A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 吴亮;王琦琨;黄嘉丽;雷丹;李哲;朱如忠;付丹扬;黄毅 申请(专利权)人: 奥趋光电技术(杭州)有限公司
主分类号: C30B23/02 分类号: C30B23/02;C30B29/38
代理公司: 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 代理人: 王健
地址: 311100 浙江省杭州市余杭区余*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的提供了一种大温差晶体生长炉,包括:坩埚托台,放置于坩埚托台上的坩埚,用于加热坩埚底部的加热器,用于冷却坩埚顶部的伸入式水冷壁,以及围绕坩埚布置的保温部件;其中,所述伸入式水冷壁自炉体水冷壁向下延伸并靠近坩埚顶部,所述保温部件用于阻隔所述伸入式水冷壁与加热器之间的热传输,以及对坩埚进行保温,所述坩埚托台为可移动式坩埚托台,用于托举坩埚在竖直方向上下移动并精确控制坩埚的轴向位置;还包括上下温度监控仪,用于监测所述坩埚上下表面中心处的温度。伸入式水冷壁配备定位运动系统,可实现对坩埚内部轴向温差的灵活调控,拓宽了氮化铝单晶的生长条件窗口,实现了PVT法低温高质量氮化铝单晶生长。
搜索关键词: 一种 温差 晶体生长 制备 质量 氮化 铝单晶 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥趋光电技术(杭州)有限公司,未经奥趋光电技术(杭州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010719105.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top