[发明专利]多射束描绘方法及多射束描绘装置在审
| 申请号： | 202010721545.7 | 申请日： | 2020-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN112286003A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 松本裕史 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘英华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施方式涉及多射束描绘方法以及多射束描绘装置。实施方式的多射束描绘方法具备：取得与多个参数值对应的多个位置偏移数据的工序，该多个参数值是使照射到基板上的多射束的各射束的位置偏移量变化的参数的多个参数值；计算与所述多个位置偏移数据分别对应的多个基准系数数据的工序；使用与所述多个参数值对应的多个基准系数数据，计算与所述基板上的所述多射束的照射位置处的参数值对应的系数数据的工序；使用所述系数数据对所述各射束的每次发射的照射量进行调制的工序；以及向所述基板照射被调制后的所述照射量的多射束的至少一部分的所述各射束而描绘图案的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 多射束 描绘 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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