[发明专利]二硅化钼/碳化硅三维聚合物先驱体陶瓷及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010722118.0 申请日: 2020-07-24
公开(公告)号: CN111848172B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 姚荣迁;黄雯燕;郑艺浓;韩宇宸;韩浩哲;安子一;陈峰 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/58;C04B35/622
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 二硅化钼/碳化硅三维聚合物先驱体陶瓷及其制备方法,涉及陶瓷材料制备。将先驱体PVG粉末置于石墨纸舟中在惰性气氛保护下高温裂解,将MoSi2和裂解后的SiC(rGO)p陶瓷颗粒、先驱体PVG粉末混合形成MoSi2/SiC(rGO)p/PVG混合物,然后在酒精介质中进行球磨混合均匀后置于烘箱中烘干;装入模具中模压成型,脱模后得素坯,放入惰性气氛管式炉内进行高温烧结,随炉冷却后即得到黑色的二硅化钼/碳化硅三维聚合物先驱体陶瓷,简称3D‑SiC(rGO,MoSi2x)纳米复合块体陶瓷,其中x为二硅化钼占整个素坯的质量分数。具有较高的热导率和电导率,良好成型性与成分均匀性;工艺简单经济。
搜索关键词: 二硅化钼 碳化硅 三维 聚合物 先驱 陶瓷 及其 制备 方法
【主权项】:
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