[发明专利]具有阻变层的非易失性存储器件及其操作方法在审
申请号: | 202010723090.2 | 申请日: | 2020-07-24 |
公开(公告)号: | CN113130739A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 韩在贤;刘香根;李世昊 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人: | 王建国;许伟群 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 根据一个实施例的非易失性存储器件包括:衬底;阻变层,其设置在所述衬底之上;栅绝缘层,其设置在所述阻变层上;栅电极层,其设置在所述栅绝缘层上;以及第一电极图案层和第二电极图案层,其分别设置在所述衬底上并且设置为接触所述阻变层的不同部分。 | ||
搜索关键词: | 具有 阻变层 非易失性存储器 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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