[发明专利]一种放化纯度高的二步法99m在审

专利信息
申请号: 202010726366.2 申请日: 2020-07-25
公开(公告)号: CN111973763A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 王亚敏;张志永;陈敏 申请(专利权)人: 北京森科医药有限公司
主分类号: A61K51/12 分类号: A61K51/12;A61K51/04;A61K103/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100071 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种放化纯度高的二步法99mTc‑ECD标记工艺及99mTc‑ECD溶液,涉及显像技术领域,解决了临床显像杂质多、临床诊断困难的问题。标记工艺,包括以下步骤:S1、GH溶液的制备:将氯化亚锡和葡庚糖酸钠混合后,在常温下溶解于氯化钠溶液中,备用;S2、加入高锝[99mTc]酸钠溶液,使得氯化亚锡完全反应,摇匀,静置,得到99mTc‑GH溶液;S3、将99mTc‑GH溶液加入到ECD中,混匀后加热反应,即得标记物99mTc‑ECD溶液;本申请的99mTc‑ECD溶液由上述标记工艺得到。本申请的99mTc‑ECD溶液用于脑显像时放化纯高、显像效果好、本底低、图像清晰。
搜索关键词: 一种 纯度 步法 base sup 99
【主权项】:
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