[发明专利]边缘环、载置台、基片处理装置和基片处理方法在审
| 申请号： | 202010731343.0 | 申请日： | 2020-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN112309819A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 平隆志;菊地孝明 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供边缘环、载置台、基片处理装置和基片处理方法。本发明的边缘环包括第一边缘环和第二边缘环，该第二边缘环具有与上述第一边缘环的侧面靠近的侧面，并且能够沿上述第一边缘环的侧面在上下方向上移动，在上述第二边缘环的移动范围内，上述第一边缘环的侧面与上述第二边缘环的侧面至少部分相对。本发明能够抑制在由多个部件构成的边缘环中使一个部件相对于其他部件上下移动时产生的工艺特性的变动。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 载置台 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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