[发明专利]栅极单元及其制备方法、阵列基板的制备方法、显示机构有效
| 申请号： | 202010733059.7 | 申请日： | 2020-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN112002753B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 夏玉明;卓恩宗;唐崇伟 | 申请（专利权）人： | 北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/423 | 分类号： | H01L29/423;H01L21/288;H01L29/786;H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 谭露盈 |
| 地址： | 536000 广西壮族自治区北海市工业园北海大*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种栅极单元及其制备方法、阵列基板的制备方法、显示机构。该栅极单元的制备方法包括如下步骤：在衬底上设置导电层；在导电层远离衬底的一侧形成光刻胶层；对光刻胶层进行曝光处理，再经显影而在光刻胶层上形成贯通光刻胶层的凹槽，形成具有图案的光刻胶层；及在具有图案的光刻胶层上电化学沉积功能材料，然后去除光刻胶层，得到形成有图案层的导电层，得到栅极单元。采用上述制备方法得到的栅极单元能够制备充电时间较短的阵列基板。 | ||
| 搜索关键词： | 栅极 单元 及其 制备 方法 阵列 显示 机构 | ||
【主权项】：
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