[发明专利]提取电子器件氧化层中正电荷的方法有效
申请号: | 202010735718.0 | 申请日: | 2020-07-28 |
公开(公告)号: | CN111856164B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 李兴冀;杨剑群;吕钢;应涛 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01R29/24 | 分类号: | G01R29/24 |
代理公司: | 北京隆源天恒知识产权代理有限公司 11473 | 代理人: | 胡天人 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: |
本发明提供了一种提取电子器件氧化层中正电荷的方法,包括以下步骤:S100、选择P型半导体材料制备成衬底;S200、在衬底上制备N型外延层;S300、在外延层上形成P |
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搜索关键词: | 提取 电子器件 氧化 中正 电荷 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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