[发明专利]一种应用于半导体领域的石英罩离子污染的检测工艺在审
| 申请号： | 202010737699.5 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN112255362A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 郝齐齐;张正伟 | 申请（专利权）人： | 安徽富乐德科技发展股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/96 | 分类号： | G01N30/96 |
| 代理公司： | 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 34105 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 244000 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于半导体领域的石英罩离子污染的检测工艺，该技术的检测工艺采用离子色谱法。石英罩离子污染的检测工艺主要包括以下步骤：(1)将清洗完成后的石英罩烘干；(2)净空房中石英罩灌装纯水静置两小时；(3)取样，离子色谱仪检测阴离子含量；(4)检测完成后记录结果，将石英罩清洗，烘干，包装。采用该工艺可以检测石英罩在清洗后，药液残留在规定的范围内是否达标，能否符合使用要求，能有效检测、监控清洗的洁净度，在洗净再生领域对清洗是否达标的一种检测手段。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 半导体 领域 石英 离子 污染 检测 工艺 | ||
【主权项】：
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