[发明专利]SiC MOSFET器件结温的测量方法、装置、电子设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202010739182.X 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN112083305A 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 石帮兵;丁杰钦;李诚瞻;赵艳黎;郑昌伟;焦莎莎;罗烨辉;罗海辉 申请(专利权)人: 株洲中车时代半导体有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;金淼
地址: 412001 湖南省株洲市石峰*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供一种SiC MOSFET器件结温的测量方法、装置、电子设备及存储介质,所述方法包括对处于不同测试温度下的参考SiC MOSFET器件施加预设栅源负电压和预设源漏电流,以测量所述参考SiC MOSFET器件在不同测试温度下的源‑漏二极管结电压;对所有测试温度及其对应的所述参考SiC MOSFET器件的源‑漏二极管结电压进行线性拟合,得到源‑漏二极管结电压与温度的线性关系;对待测SiC MOSFET器件施加所述预设栅源负电压和所述预设源漏电流,以测量所述待测SiC MOSFET器件的源‑漏二极管结电压;利用所述线性关系,根据所述待测SiC MOSFET器件的源‑漏二极管结电压确定其结温。该方法利用SiC MOSFET器件的结电压在一定的栅源负电压下具有良好线性温敏特性的特点,能够实现器件结温的准确测量。
搜索关键词: sic mosfet 器件 测量方法 装置 电子设备 存储 介质
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株洲中车时代半导体有限公司,未经株洲中车时代半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010739182.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top