[发明专利]光谱学和成像系统在审
| 申请号： | 202010739452.7 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN112305002A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | O·格林伍德;A·布歇尔;M·亨弗森 | 申请（专利权）人： | VG系统有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2273 | 分类号： | G01N23/2273;G01N23/227;H01J49/02;H01J49/48 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 周全;陈洁 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于经由光谱学和/或成像表征样品的设备和方法。所述设备包括用于成像或光谱学的第一检测器、用于成像或光谱学的第二检测器以及环形电容器型静电能量分析仪。所述环形电容器型静电能量分析仪包括第一和第二入口孔，所述第一和第二入口孔被布置成使得从样品发射并穿过所述第一入口孔的带电粒子横穿通过所述环形电容器型静电能量分析仪的第一轨迹，以入射在所述第一检测器处，并且从样品发射并穿过所述第二入口孔的带电粒子横穿通过所述环形电容器型静电能量分析仪的第二轨迹，以入射在所述第二检测器处。布置在所述样品和所述分析仪之间的偏转组件可用来将从所述样品发射的带电粒子引向所述分析仪的所述第一和/或第二入口孔。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 成像 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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