[发明专利]一种防止金属污染的HF-PECVD法制石墨烯装置在审
申请号: | 202010740154.X | 申请日: | 2020-07-28 |
公开(公告)号: | CN111850505A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 刘柏祥 | 申请(专利权)人: | 龙游讴凡纳米材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44;C23C16/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 324400 浙江省衢州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种防止金属污染的HF‑PECVD法制石墨烯装置,包括机体以及设置于所述机体中的热丝管,所述热丝管中设有两个电极块,所述电极块之间连接有钨丝,所述热丝管左端设有与外界连通的进气口,所述机体中设有位于所述热丝管右侧的石墨烯腔,所述热丝管右端和所述石墨烯腔相连通,所述石墨烯腔右壁上设有与外界连通的出口,所述机体中设有位于所述石墨烯腔右侧的处理腔,所述处理腔左端设有与外界连通的入口,本装置可以自动除去沉淀石墨烯时产生的金属污染,并通过碘将污染变为碘化钨最后重新分解为钨并附着在钨丝上,同时本装置可以根据钨丝变化的重量从而加入不同量的碘蒸汽对污染物进行处理。 | ||
搜索关键词: | 一种 防止 金属 污染 hf pecvd 法制 石墨 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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