[发明专利]一种波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010742581.1 申请日: 2020-07-29
公开(公告)号: CN111830626B 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 童杏林;王沁宇;张翠;邓承伟;许欧阳;张特 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 张惠玲
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列的制备方法,该方法包括以下步骤:步骤1),飞秒激光刻写装置在同一根聚酰亚胺光纤上连续刻写多个不同波长的光纤布拉格光栅,形成聚酰亚胺光纤光栅阵列;步骤2),将步骤1)得到的聚酰亚胺光纤光栅阵列从刚性导热管的开口处置入其内腔,然后采用橡胶限位管将聚酰亚胺光纤光栅阵列固定,最后在刚性导热管的开口处注入耐高温无机胶进行固定,制得波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列。本发明制备得到低反射率、低偏振相关、低插损和耐高温性好的光纤光栅,可以在300‑1000℃高温条件下稳定工作,适合航空航天、机载过热、石油化工和电力工业等极端环境。
搜索关键词: 一种 时分 复用低 反射率 高温 光纤 光栅 阵列 制备 方法
【主权项】:
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