[发明专利]抑制可控型采样场效应晶体管负温度特性的器件在审

专利信息
申请号: 202010748363.9 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111682070A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 李泽宏;胡汶金;赵一尚;郭乔;杨尚翰 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种抑制可控型采样场效应晶体管负温度特性的器件,包括:P型衬底、N型漂移区、P型重掺杂一区、N型半导体漏区、P型双重降低表面电场(Double RESURF)区、P型体区、P型重掺杂二区、N型重掺杂区、P型阱区、N型轻掺杂电阻区、第一多晶硅、第二多晶硅、氧化层、漏极金属、栅极金属、导线金属、电流感测电极以及衬底金属;本发明在传统高压C‑SenseFET的基础上,在功率器件源端和Sense电极之间扩散形成阱电阻,并通过金属导线使其与源极连接,实现了高压C‑SenseFET新结构的设计,从而有效抑制了负温特性,降低了温度漂移系数,改善了C‑SenseFET器件的温度特性。
搜索关键词: 抑制 可控 采样 场效应 晶体管 温度 特性 器件
【主权项】:
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