[发明专利]一种浮栅型FLASH突触器件结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010751228.X 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111834371B 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 刘国柱;魏敬和;于宗光;宋思德;曹利超;赵伟 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十八研究所
主分类号: H01L27/1156 分类号: H01L27/1156;H01L27/11519;H01L27/11521
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种浮栅型FLASH突触器件结构及其制备方法,属于微电子集成电路技术领域。浮栅型FLASH突触器件单元包括2个共浮栅且共控制栅的FLASH管:1个pFLASH管T1和1个nFLASH管T2;所述pFLASH管T1和所述nFLASH管T2通过共栅方式控制pFLASH管T1和nFLASH管T2多种存储信息状态,以建立T1和T2的STDP学习函数,实现该FLASH突触器件的LTD与LTP基本功能。本发明基于共浮栅和共享电荷技术实现了浮栅电荷量对沟道电阻改变,进而可以转化为编程时间脉冲与导通电阻或读取电流之间的权重关系,实现突触器件的LTP和LTD功能。该器件具有低功耗、编程时间短、多电阻分布区的特点,结构工艺兼容于CMOS,步骤简单,安全可靠,在人工神经网络应用方面有着广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 浮栅型 flash 突触 器件 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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