[发明专利]基板处理设备在审
| 申请号： | 202010765294.2 | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN112447478A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李昌敏;郑元基 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种基板处理设备，能够通过均匀排气来处理薄膜以提高质量，包括：基板支撑单元；基板支撑单元上的处理单元；排气单元，其连接到基板支撑单元与处理单元之间的反应空间；排气端口，其连接到排气单元的至少一部分；以及流动控制单元，其设置在从排气单元内部的空间到排气端口的排气通道中。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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