[发明专利]集成电路和测量方法在审
| 申请号： | 202010770116.9 | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN112444680A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 赖纳·斯塔尔德迈尔;弗朗茨·阿姆特曼 | 申请（专利权）人： | 恩智浦有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/26 | 分类号： | G01R27/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 荷兰埃因霍温高科*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本公开的第一方面，提供了一种包括电流源和参考电容器的集成电路，所述集成电路被配置成：使用所述电流源在外部测量电容器中注入第一电流，并且确定所述测量电容器上的所得电压达到电压阈值的第一时间量；使用所述电流源在所述参考电容器中注入第二电流，并且确定所述参考电容器上的所得电压达到所述电压阈值的第二时间量；使用所述第一时间量与所述第二时间量之间的差来检测所述测量电容器上电容的变化。根据本公开的第二方面，提出了一种相应的测量方法。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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