[发明专利]封装结构及其形成方法在审
申请号: | 202010784025.0 | 申请日: | 2020-08-06 |
公开(公告)号: | CN112466836A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 许峯诚;郑心圃;陈硕懋 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48;H01L21/50 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开的一些实施例提供了一种封装结构及其形成方法。封装结构包括一封装基板、一中介基板、一第一半导体装置、一第二半导体装置以及一保护层。中介基板设置在封装基板上方。第一半导体装置以及第二半导体装置设置在中介基板上方,其中第一半导体装置以及第二半导体装置是不同类型的电子装置。保护层形成在中介基板上方,以包围第一半导体装置以及第二半导体装置。第二半导体装置自保护层暴露,而第一半导体装置并未自保护层暴露。 | ||
搜索关键词: | 封装 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010784025.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于面部分析的图像归一化方法、系统和可读介质
- 下一篇:有效喷射