[发明专利]一种氧化铝图形化方法有效

专利信息
申请号: 202010785171.5 申请日: 2020-08-06
公开(公告)号: CN112968099B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 王涛 申请(专利权)人: 重庆康佳光电技术研究院有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 李发兵
地址: 402760 重庆市璧*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及一种氧化铝图形化方法以及LED芯片,形成图形化的氧化铝层时,先在外延片上设置遮挡层,然后对遮挡层进行图形化处理,得到顶横截面大于底横截面的遮挡结构。由于遮挡结构可以作为屏障将外延片对应区域隐藏起来,这样在形成氧化铝层的过程中,外延片的该区域就会因为遮挡结构的遮挡而不会被氧化铝层覆盖,而其他区域因为没有被遮挡结构遮挡,会被氧化铝层覆盖。随后除去遮挡结构,就可以使得没有被氧化铝层覆盖的外延片暴露出来,进而得到图形化的氧化铝层。不需要对氧化铝层进行刻蚀就可以得到图形化的氧化铝层,避免了氧化铝图形化过程中对外延片的损伤,有利于生产出品质优秀的LED芯片。
搜索关键词: 一种 氧化铝 图形 方法
【主权项】:
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