[发明专利]固态金属有机化合物转态方法及其转态系统在审
申请号: | 202010787184.6 | 申请日: | 2020-08-07 |
公开(公告)号: | CN114059038A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 吕宝源 | 申请(专利权)人: | 吕宝源 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 贾慧琴;周乃鑫 |
地址: | 210005 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明揭露一种固态金属有机化合物转态方法及其转态系统,其方法应用具有反应腔的有机金属化学气相沉积设备(MOCVD),包含(a)提供预先填充金属有机化合物的可替换式容器;(b)加热固态金属有机化合物为液态金属有机化合物;(c)载入第一载气;(d)第一载气通过流经可替换式容器中的金属有机化合物;(e)输出饱和蒸气压;(f)加载来自于有机金属化学气相沉积设备的第二载气;以及(g)稳定模块混合第二载气与第一载气带出的金属有机的饱和蒸气压以形成混合气体,混合气体不会发生冷凝现象且输出至反应腔的金属有机化合物数量保持不变。 | ||
搜索关键词: | 固态 金属 有机化合物 方法 及其 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的