[发明专利]一种抗γ射线辐照的高储氢复合防护膜层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010789501.8 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN111961383B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 李杨;吴晓宏;卢松涛;秦伟 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 张金珠
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了一种抗γ射线辐照的高储氢复合防护膜层及其制备方法,属于空间抗辐射领域。本发明要解决航天器结构功能材料的防辐射性能差的技术问题。本发明采用原子层沉积技术在钴‑硫金属化合物表面沉积ZnO薄膜,再利用高能球磨技术设计制备高储氢金属化合物,通过石墨烯改性提高化合物的性能,构筑一种复合膜层结构。石墨烯中丰富的缺陷和表面官能团可提供与钴‑硫金属化合物纳米颗粒结合的位点,且石墨烯巨大的比表面积、较强的电子转移能力及表面加成反应将辐射产生的自由基捕捉猝灭,从而减弱了辐射老化降解,保持交联程度的稳定性,实现卫星结构单元的空间抗辐射加固,为长寿命高可靠航天器的选材和设计提供技术支持。
搜索关键词: 一种 射线 辐照 高储氢 复合 防护 及其 制备 方法
【主权项】:
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