[发明专利]一种抗单粒子辐射加固的GaN器件有效

专利信息
申请号: 202010797183.X 申请日: 2020-08-10
公开(公告)号: CN111883593B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 王颖;程有忠;曹菲;包梦恬;于成浩 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/08;H01L29/40;H01L29/47
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 代理人: 张换君
地址: 310018 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种抗单粒子辐射加固的GaN器件,包括由下到上依次层叠设置的衬底、缓冲层、沟道层、势垒层、钝化层;抗单粒子辐射加固的GaN器件的两端分别设有源极、漏极;源极、漏极贯穿势垒层、钝化层;源极、漏极之间设有沟槽,沟槽贯穿势垒层、钝化层;沟槽内设有栅极,栅极与沟槽内壁之间设有栅介质层;栅极、漏极上部分别连接有栅场板、漏场板;势垒层上还设有埋N阱,埋N阱厚度与势垒层厚度相同,埋N阱与沟槽之间设有间隙;埋N阱顶部连接有肖特基电极,肖特基电极与埋N阱宽度相同且上下对应设置,肖特基电极顶部设有肖特基电极场板。本发明能够防止器件在低漏极偏置电压下发生烧毁,有效提升了GaN器件的单粒子烧毁阈值电压。
搜索关键词: 一种 粒子 辐射 加固 gan 器件
【主权项】:
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