[发明专利]一种DLC涂层工艺在审
| 申请号： | 202010803821.4 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN111926301A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 刘成斌;黄明章 | 申请（专利权）人： | 东莞市普拉提纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C23C16/26;C23C16/02 |
| 代理公司： | 东莞市启信展华知识产权代理事务所(普通合伙) 44579 | 代理人： | 冯蓉 |
| 地址： | 523000 广东省东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种DLC涂层工艺，包括步骤一，准备原料；步骤二，装置放置；步骤三，金属沉积；步骤四，气体电离；步骤五，存储放置；其中在上述步骤一中，人工检测需要的DLC涂层材料，并根据需要的DLC涂层材料购买金属靶材料；该一种DLC涂层工艺，同时具备了PVD与PECVD的功能，该工艺设备配置了PVD镀膜所需的磁控溅射靶和PECVD气体镀膜所需的放电电极，磁场线圈；该工艺设备能够在低温下实现DLC涂层工艺：同时解决了DLC打底需要磁控溅射，碳膜层需要PECVD的难题，且能够在较低温度下裂解含碳气体；该工艺设备的沉积速率快：采用线圈产生电磁场与中心辅助阳极相结合的方式，辅以高功率脉冲电源，提高含碳气体的离化率，碳层的沉积速率提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 dlc 涂层 工艺 | ||
【主权项】：
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