[发明专利]一种基于X射线多层膜波带片的修正方法及系统有效
| 申请号： | 202010810946.X | 申请日： | 2020-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN111856637B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 陈溢祺;朱忆雪;张秀霞;金宇;朱东风;朱运平 | 申请（专利权）人： | 苏州宏策光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G21K1/06;G01N23/2251 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 张梦泽 |
| 地址： | 215400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于X射线多层膜波带片的修正方法及系统，方法包括：在多层膜波带片的上端和下端各镀制N层周期膜；对镀制的N层周期膜进行掠入射X射线反射测试，确定两端镀制的N层周期膜的周期厚度；利用电子显微镜对多层膜波带片以及两端镀制的N层周期膜进行拍摄，获得拍摄图像；读取拍摄图像中每层膜波带片的厚度以及两端镀制的N层周期膜的厚度；根据周期厚度和拍摄图像中的周期膜厚度对拍摄图像中每层膜波带片的厚度进行修正。本发明在多层膜波带片上下两端增加了周期膜，修正了电子显微镜图像拍摄时引入的误差，提高了电子显微镜定位与厚度表征的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 射线 多层 波带片 修正 方法 系统 | ||
【主权项】：
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