[发明专利]磁存储器件在审
申请号: | 202010811130.9 | 申请日: | 2020-08-13 |
公开(公告)号: | CN112397639A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 李叙元;文廷桓;朴正熏;金禹珍;洪亨善 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/14;G11C11/16 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 磁存储器件包括:器件隔离层,在衬底上并限定有源区;源极区和漏极区,在衬底的有源区中彼此分开;沟道部分,在衬底的有源区中并在源极区和漏极区之间;自旋轨道矩(SOT)诱导层,在衬底的沟道部分上;在SOT诱导层上的磁隧道结(MTJ)结构,该MTJ结构包括在SOT诱导层上的自由层、在自由层上的隧道势垒层和在隧道势垒层上的被钉扎层;在MTJ结构上的字线;电连接到源极区的源极线;以及电连接到漏极区的位线。 | ||
搜索关键词: | 磁存储器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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