[发明专利]多电子束聚焦装置和控制方法在审
| 申请号： | 202010812526.5 | 申请日： | 2020-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN111883408A | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 尹华碧 | 申请（专利权）人： | 深圳市奥谱太赫兹技术研究院 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/30;H01J37/21 |
| 代理公司： | 广东良马律师事务所 44395 | 代理人： | 李良 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多电子束聚焦装置和控制方法，所述多电子束聚焦装置包括用以产生电子束的热或冷场发射阴极电子源和栅极、电子束分束的分束器、提高电子束能量的加速透镜、提高电子束质量的消相差透镜、对各电子束束斑的高分辨物镜阵列、对电子束位置进行微调的电子束偏转器以及控制电子束通过的束闸，以便于对电子束的精准控制，因此在相同面积的圆晶上可以容纳数量更多的电子束实现同时曝光，提高了集成电路加工应用中的精度和速度。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 聚焦 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
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