[发明专利]一种针对薄层刻画的方法及系统在审

专利信息
申请号: 202010826157.5 申请日: 2020-08-17
公开(公告)号: CN114076980A 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 马琦琦;段太忠;廉培庆;张文彪;赵磊;李蒙 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院
主分类号: G01V1/30 分类号: G01V1/30;G01V1/36
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;朱明明
地址: 100728 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种针对薄层刻画的方法及系统,其中,该方法包括获取研究区分角度叠加数据体,并通过叠前反演获取研究区的背景纵横波速度比值。获取用于表征零偏移距数据与实测地震数据之间关系的目标函数,其中,所述移距数据为纵波阻抗反射率褶积子波结果。利用获取的目标函数,对分角度叠加数据体进行反演处理,获得研究区的真实零偏移距地震反射数据。获取基于反演得到的真实零偏移距反射数据的基础上,获取零偏移距反射数据的奇偶分量权系数,在此基础上获取提高分辨率后的零偏移距反射数据。利用分步方法,获取零偏移距信息,再在零偏移距信息的基础上进行奇偶分量分解,提高反射数据纵向分辨率,整个过程相对多角度叠加数据直接反演更加稳定。
搜索关键词: 一种 针对 薄层 刻画 方法 系统
【主权项】:
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