[发明专利]等离子体分布监测装置及方法在审
| 申请号： | 202010831196.4 | 申请日： | 2020-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN112004302A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 杨宏旭 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/00 | 分类号： | H05H1/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请涉及半导体技术领域，具体涉及一种等离子体分布监测装置及方法。等离子体分布监测装置包括：电压可调电源和多个等离子体探针，多个等离子体探针对称地分布在等离子刻蚀机反应室的外周；等离子体探针包括工作端和检测端；电压可调电源连接等离子体探针的检测端，用于给等离子体探针施加可变电压；等离子体探针的工作端伸入等离子刻蚀机的反应室中，用于探测反应室中的等离子体。本申请提供的等离子体分布监测装置及方法，通过多个等离子体探针在各个位置，对称地探测反应室中的等离子体，能够多方位判断等离子体在反应室中的分布情况，为判断等离子体分布均匀性的判断提供依据。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 分布 监测 装置 方法 | ||
【主权项】：
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