[发明专利]能实现拓扑绝缘体表面态调控的超晶格[GeTe/Sb2有效

专利信息
申请号: 202010836781.3 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN111952363B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 程晓敏;夏泽瑛;张瑾;冯金龙;童浩;缪向水 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L29/66 分类号: H01L29/66
代理公司: 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 代理人: 张宇娟
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种能实现拓扑绝缘体表面态调控的超晶格[GeTe/Sb2Te3]n材料,在初始超晶格[GeTe/Sb2Te3]n材料中加入掺杂元素,所述掺杂元素包括锰Mn或铬Cr或钐Sm中的至少一种,以破坏所述超晶格[GeTe/Sb2Te3]n材料的时间反演对称性,使得其表面能带结构的狄拉克点打开,同时产生能带自旋劈裂现象。通过将掺杂元素引入初始超晶格材料,与现有技术相比能够有效解决拓扑绝缘体表面态狄拉克锥调控不易、狄拉克点无法被打开等问题。
搜索关键词: 实现 拓扑 绝缘体 表面 调控 晶格 gete sb base sub
【主权项】:
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