[发明专利]一种受污染场地垂直阻隔系统及建设方法在审
| 申请号： | 202010838014.6 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN111945791A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 常跃畅;葛亚军;曹占强;戴小东;董健;杨槟赫;宗宇坤;孙晓东;刘明达;张许 | 申请（专利权）人： | 北京首创环境科技有限公司 |
| 主分类号： | E02D31/00 | 分类号： | E02D31/00;E02D5/18 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 于晶晶 |
| 地址： | 100028 北京市朝*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种受污染场地垂直阻隔系统及建设方法，所述受污染场地垂直阻隔系统包括地下连续墙、高压旋喷咬合桩，所述地下连续墙环绕受污染场地垂直设置，所述高压旋喷咬合桩设置多个，各高压旋喷咬合桩分布于相邻地下连续墙接缝内侧及拐点阴角处。本发明提供了一种受污染场地垂直阻隔系统及构建方法，该受污染场地垂直阻隔系统主要由地下连续墙、高压旋喷咬合桩共同组成满足防渗要求的阻隔系统，具有适用地质条件广、技术可靠、易于工程化实施的特点；该受污染场地垂直阻隔系统构建方法简单，可操作性性强，便于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 污染 场地 垂直 阻隔 系统 建设 方法 | ||
【主权项】：
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