[发明专利]一种碳化外延层厚度的共聚焦拉曼光谱深度检测方法在审
申请号: | 202010838959.8 | 申请日: | 2020-08-19 |
公开(公告)号: | CN111965164A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 徐宗伟;宋莹;刘涛;王虹;吴金桐;刘嘉宇 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 程毓英 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种碳化外延层厚度的共聚焦拉曼光谱深度检测方法,所采用的测量仪器为共聚焦拉曼光谱仪,包含以下步骤:设置共聚焦针孔或狭缝的直径或宽度≤200μm,保证共聚焦拉曼光谱仪的Z向空间分辨能力;选择40‑60倍长工作距离物镜,设置光谱扫描范围覆盖碳化硅的LOPC峰;聚焦碳化硅样品表面,调整样品台位置Z直到表面清晰且激光光斑最小;获得不同深度的拉曼光谱;对不同深度的拉曼光谱中LOPC峰按照如下高斯‑洛伦兹拟合公式进行峰型拟合;得到样品外延层的厚度。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化 外延 厚度 聚焦 光谱 深度 检测 方法 | ||
【主权项】:
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