[发明专利]描绘方法以及描绘装置在审
| 申请号： | 202010843315.8 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN112415858A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 松井博司;乘光良直 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 范胜杰;赵子翔 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明抑制焦深的降低等，并且实现所形成的图案形状的微细化。描绘方法具备：相对于感光材料以在至少一部分具有第1位移图案的第2描绘图案照射描绘光的工序；使感光材料显影的工序、以及在基板的上表面形成第1图案形状的工序，第1位移图案是与第1描绘图案中的对应的单位图案至少一部分重叠且从对应的单位图案偏移的单位图案。 | ||
| 搜索关键词： | 描绘 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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